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beat365中国在线体育国产EUV与DUV的分类

　　beat365中国在线体育国产EUV与DUV的分类技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统，ASML将需要申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统。ASML强调，这些管制措施需要一定时间才能付诸立法并生效。

　　外交部例行记者会上，有媒体提问，据报道beat365中国在线体育，荷兰外贸与发展合作大臣施赖纳马赫尔向荷议会致函称，出于考虑，荷兰将于今年夏天之前对其芯片出口实施限制性措施。中方对此有何评论？

　　外交部发言人毛宁表示，中方注意到有关报道，对荷方以行政手段干预限制中荷企业正常经贸往来的行为表示不满，已向荷方提出交涉。

　　EUV的光源波长为13.5nm，但最先进DUV的光源波为193nm，较长的波长使DUV无法实现更高的分辨率，因此DUV只能用于制造7nm及以上制程的芯片。

　　EUV是未来光刻技术和先进制程的核心。为了追求芯片更快的处理速度和更优的能效，需要缩短晶体管内部导电沟道的长度，而光刻设备的分辨率决定了IC的最小线宽。因此，***的升级就势必要往最小分辨率水平发展。***演进过程是随着光源改进和工艺创新而不断发展的。EUV作为5nm及更先进制程芯片的刚需，覆盖了手机SoC、CPUGPU、1γ工艺DRAM等多种数字芯片，譬如苹果的A15、高通的Gen1及以后系列芯片等。

　　从两种***的市场应用来看，EUV***是芯片行业目前最尖端的技术，主要用于生产5nm及以下的芯片，这些芯片主要用来生产苹果、高通、三星等手机及平板处理器，也主要集中在消费领域；其他60%以上的工业还不需要5nm及以下的芯片制程和技术，这类芯片主要由DUV***生产，覆盖大部分的图像传感器、功率IC、MEMS模拟IC以及逻辑IC等。

　　1961年，美国GCA公司制造出了第一台接触式***。关于中国最早的***，有一种说法是1966年，中国科学院微电子研究所的前身——109厂与上海光学仪器厂协作，研制成功中国第一台65型接触式***。

　　1977年，江苏吴县举行了全国性的***座谈会，明确要改进光刻设备，尽快赶超世界先进水平。于是清华大学精密仪器系、中电科45所等先后投入研制更先进的***。随后在1985年，中电科45所研制出的分步式投影***，通过电子部技术鉴定：达到美国GCA在1978年推出的4800DSW***水平。当时，ASML才刚刚诞生。

　　如此来看，国产***还算是拥有一个还不错的起点。然而由于中国半导体产业整体力量太薄弱，在扩大对外开放的背景下，“造不如买”的迅速蔓延全国。因此，国产***虽然研发出来，却没有很好的下游应用市场，无法真正走上市场和商业化的道路，只能停留在实验室研究阶段。

　　此后的二三十年，这种现实愈演愈烈，中国***对外的差距也越来越大。在缺芯少魂的担忧下，中国喊出了“砸锅卖铁也要研制芯片”的口号。在中国必须掌握集成电路的主动权的战略重视下，国产***重新艰难起步。

　　2002年，***被正式列入“863重大科技攻关计划”。2008年，国家又成立“极大规模集成电路制造装备与成套工艺专项”（02专项），以建立自主的高端光刻技术和产业发展能力作为重大、核心的战略目标。

　　经过将近20年的攻关，***的集成技术终于完成从0到1的关键突破，在双工作台、光学系统、物镜系统、光源系统方面均有企业相继研发成功。

　　在光源方面，中国科益虹源公司自主研发设计生产的首台高能准分子激光器，以高质量和低成本的优势，填补中国在准分子激光技术领域的空白，其已完成了6kHZ、60w主流ArF***光源制造。

　　在光学镜头方面，尽管与卡尔蔡司、尼康等公司还有非常大的差距，但2020年奥普光学曾在互动平台表示，公司生产的Caf2光学晶体应用范围较广，客户可根据实际需求进行二次开发，产品可以用于***的光学系统中。不过，去年7月，奥普光电在互动平台表示，公司目前没有产品用于***项目。

　　在***整机生产（中游）方面，上海微电子是国内技术最领先的光刻设备厂商，其90纳米的***已获得突破。

　　中国***的制造力量正在不断加强，然而目前中国的***量产能力只有90nm，中国在实现更先进的芯片制造中仍然困难。与此同时，在***进口道路上同样暗潮涌动。先是在2019年，美国限制ASML研发的最先进EUV设备销往中国。如今更进一步，似乎对DUV的出口也要作出新的限制。03

　　回到本次讨论的DUV上。ASML强调：“新出口管制并不适用于所有的浸入式光刻工具，而只适用于所谓‘最先进的’”。另外ASML还指出，先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。

　　由于DUV***中的浸润式***分很多种型号，有些只能生产14nm以上工艺，有些能够生产最高7nm工艺。所以浸润式***，究竟哪些能够卖，哪些不能卖，就成为了大家最关注的问题。

　　根据ASML的解读，其NXT:2000i及之后的浸没式光刻系统将会受到出口限制。这也意味着，NXT:1980Di仍将可以出口，即国内大量采用NXT:1980Di进行成熟制程制造的晶圆厂将不会受到影响。

　　一方面，根据ASML官网的数据，TWINSCAN NXT:1980Di的分辨率是大于等于38nm，数值孔径是1.35NA，每小时可以生产275片晶圆。目前这台浸润式***，普遍用于14nm及以上的芯片制造。理论上NXT:1980Di依然可以达到7nm，只是步骤更为复杂，成本更高，良率可能也会有损失。足以见得，主要的成熟芯片的生产并未受到影响。

　　另一方面，中国拥有ASML难以放弃的广阔市场。根据ASML财报，2022年该公司共出货345台光刻设备产品，其中有81台浸没式DUV***（ArFi），占比为23%。所有产品中，42%销往中国，29%销往韩国，14%销往中国，销往美国的只有7%。

　　高端***集合了全球各国最顶尖的科技，如：德国的蔡司镜头技术、美国的控制软件和光源、日本的特殊复合材料等，下游厂商为了获得优先供货权纷纷投入巨额资金支持ASML研发。所以，国产***的突围并非易事。目前，国产的深紫外线***正处于研发的关键进程之中。在这背后，包括上海微电子在内的多位国产玩家正在攻关。

　　在ASML的通路受阻之后，中国企业采购DUV***的通路，还剩下尼康和佳能。目前，日本也尚未表明态度。未来向外采购这条道路将会变得越来越不确定。在这种情况下，自主研发***的提速将变得愈发迫切。

　　中国庞大的半导体市场需求摆在这里，市场需求必然会驱动技术创新去逐步攻克***技术。但目前关于国产***和芯片等研发的进程，都是在实验室的数据中，真正能落实到量产和生产线的，还会有很悬殊的路要走，才能最终落地。

　　除了加大力量研发***之外，中国还在尝试其他芯片路线。比如光芯片，量子芯片等等，在最近几年已经取得了一定突破，目前中国已经有不少企业申请了量子芯片技术相关专利，如果未来量子芯片能够得到应用，这将有利于我们减少对传统硅基芯片的依赖。

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beat365中国在线体育国产EUV与DUV的分类(图1)

　　光掩模基础设施。光掩模是给定IC设计的主模板。面膜开发之后，它被运到制造厂。将掩模放置在光刻工具中。该工具通过掩模投射光，这又掩模在晶片上的图像。

　　光刻机，为其晶圆代工厂提供最先进的工艺支持，日本虽然半导体制造水平这些年来提升不大，却也计划引进

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　　-CT - LED SMD - LIGITEK electronics co., ltd.

　　- High-Side, n-Channel MOSFET Switch Driver Internal On/Off Latch - Maxim Integrated Products

　　- CERMAX XENON ARC LAMPS - PerkinElmer Optoelectronics

　　- N-Channel 20-V (D-S) MOSFET - Vishay Siliconix

　　，光源是ArF（氟化氩）准分子激光器，从45nm到10/7nm工艺都可以使用这种光刻机，但是到了7nm这个节点已经的

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　　是第一台使用3个检测器的分光光度计：光电倍增管（PMT）探测器检测紫外区和可见光区，近红外

　　多层膜、超光滑抛光技术等方面。2008年‘极大规模集成电路制造装备及成套工艺’国家科技重大专项将EUVL技术列为下一代光刻技术重点攻关。《中国制造2025》也将EUVL列为了集成电路制造领域的发展重点对象，并计划在2030年实现

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　　工艺制程走入10nm以下后，台积电的优势开始显现出来。在7nm节点，台积电优先确保产能，以

　　（深紫外光微影）设备则是创下73亿欧元的纪录。总裁暨执行长Peter Wennink 表示，2021 年的

　　）技术生产内存，美光（Micron）企业副总裁、中国美光董事长徐国晋表示，美光不打算跟进，目前并无采用

　　光刻机，在整个芯片生产制造环节，是最最最核心的设备，技术难度极高。在全球光刻机市场，日本的尼康、佳能，和荷兰的ASML，就占据了市场90%以上份额。而最高级的

　　光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备，其中10nm及以下的芯片制造，

　　亿美元。根据该协议，中芯国际将先行向ASML支持30%的预付款，余款将于产品交付时支付。从采购金额来看，12亿美金够买十多台先进的

　　光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备，其中10nm及以下的芯片制造，

　　光刻机的吞吐量相对较低，每小时可曝光处理的晶圆数量约在120片－175片之间，技术改进后，速度可以提升至275片每小时。但相对而言，

　　，大家首先想到的就是ASML，ASML并不是一个家喻户晓的名字，但他却是现代技术的关键。因为它提供了制造

　　光刻机，三星、台积电都是ASML的客户。但受《瓦森纳协定》的制约，中国没有从ASML买来一台

　　一提起ASML这家公司，就少不了对光刻机问题的讨论，因为截至目前，ASML仍然是全球最领先的光刻机厂商。普通的

　　！近日，中芯国际与ASML达成12亿美元交易购买晶圆生产设备的消息引发关注。针对双方此次合作，有媒体报道称“除了

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　　光刻机，中芯国际几乎可以买到其他所有型号的光刻机。”但是这一说法很快被ASML官方澄清，该协议与

　　LED）凭借其工作电压低、功耗低、无污染、体积小、易于集成、直流驱动等优势，不仅替代了传统汞灯在聚合物固化、杀菌医疗、废水处理等领域的应用，而且把健康、环保

　　光刻机，而这也导致中国的半导体产业发展缓慢，尖端技术发展受限，而日前美方又继续向荷兰政府施压，想切断中国

　　光刻机等产品的供应链，以此来打击中国半导体行业的发展。如果荷兰接受了美国的要求，中国将失

　　光刻机是在2018年开始出现，并在2019年开始大量交付，而台积电也是在2019年推出了7nm

　　光刻机原理是什么芯片生产的工具就是紫外光刻机，是大规模集成电路生产的核心设备，对芯片技术有着决定性的影响。小于5 nm的芯片只能由

　　光刻机为光刻胶再度带来了挑战，更少的随机效应、更高的分辨率和更薄的厚度。首先传统的正胶和负胶肯定是没法用了，

　　根据 ASML 的说明，尽管目前整体环境呈现短期的不确定性，仍见长期在晶圆需求与产能上的健康增长。ASML 提到，各个市场的强劲增长、持续创新、更多晶圆代工厂的竞争，以及技术主权竞争，驱动市场对于先进与成熟制程的需求，因而需要更多晶圆产能。

　　最近，因为美日荷的出口管制，有关光刻机的很多讨论又在中文媒体圈发酵。在这里，我们从semianalysis等媒体的报道，向大家展示一下备受关注的

　　光刻机可以将曝光分辨率提高到7纳米以下的超高级别，从而实现更高清晰度和更高性能的芯片制造。

　　光刻掩模的制造面临着许多挑战，包括掩模基底的低热膨胀材料的开发、零缺陷衬底抛光、多层膜缺陷检查、多层膜缺陷修复等。

　　技术开发的领先者。asml公司是半导体领域光刻机生产企业的领头羊，也是全球市场占有率最大的光刻机生产企业。2012年，asml推出了世界上第一个

　　据悉，签署的谅解备忘录包括在比利时鲁汶设置imec测试线及asml的所有尖端光标及测量设备的服务。最新款0.55 na

　　系统需要许可证芯片战愈演愈烈。荷兰正式实施半导体出口管制条款，这将对光刻机巨头阿斯麦（ASML）产生更多影响。ASML的

　　）系统时申请出口许可证。荷兰政府在一份电子邮件声明中表示，这些措施将于9月1日生效，并于周五在荷兰官方公报上公布。

　　光刻机是半导体产业的重要设备之一。网传荷兰ASML（阿斯麦）试图规避荷兰新销售许可禁令，向中国推出特别版

　　的时间表和技术要求上。ASML战略营销高级总监Michael Lercel表示，目标是提高

　　光刻机产品共有三款，分别是TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。

　　光是指用于微芯片光刻的极紫外光，涉及在微芯片晶圆上涂上感光材料并小心地将其曝光。这会将图案打印到晶圆上，用于微芯片设计过程中的后续步骤。

　　的时间表和技术要求上。ASML战略营销高级总监Michael Lercel表示，其目标是提高